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shipley s1813光刻胶

简要描述:shipley s1813光刻胶
S1800系列, 正胶、紫外光刻胶。
光源推荐:g-Line,也可以用于宽谱。
单层厚度:0.4-2.7um。
型号:
S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2
应用:
应用于湿法腐蚀和干法刻蚀,也与底层胶LOR搭配,做lift-off 工艺。

  • 产品型号:s1800
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2025-08-04
  • 访  问  量:110

详细介绍

 

S1800系列光刻胶

shipley s1813光刻胶

产品介绍:

S1800系列, 正胶、紫外光刻胶。

光源推荐:g-Line,也可以用于宽谱。

单层厚度:0.4-2.7um

型号:

S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2

应用:

应用于湿法腐蚀和干法刻蚀,也与底层胶LOR搭配,做lift-off 工艺。

特性:

● 通过ZXJ的物理、化学和功能测试,保证批次与批次之间的一致性

● 绝对过滤精度0.2um,杂质少

● 不含醋酸纤维素和二甲苯

● 高分辨

● 粘附性好

● 涂胶厚度均匀

● 多种标准粘度可用于单层加工

● 可适用于无金属离子的(MIF)显影液和含金属离子的显影液(MIC)

● 易去胶

 

shipley s1813光刻胶


 

S1800系列配套显影液

shipley s1813光刻胶

型号:

MICROPOSITR MF-319 DEVELOPER

主要成分:

水 >95% CAS 7732-18-5

表面活性剂 <1%

四甲基氢氧化铵 2.2% CAS 75-59-2

原理与使用方法:

MF-319显影液专门用于高分辨率半导体器件。它是S1400®S1800®系列光刻胶的专用无金属离子的显影液。虽然MF-319显影液可以用于浸泡显影、旋喷显影,但较好的显影方式是喷雾式或者puddle式显影。

储存:

存储在干燥区域,温度范围为50°-90°F10°-32°C)。

远离酸、阳光、热源和火源。

放入密封的贮藏器。


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