详细介绍
S1800系列光刻胶
shipley s1813光刻胶
产品介绍:
S1800系列, 正胶、紫外光刻胶。
光源推荐:g-Line,也可以用于宽谱。
单层厚度:0.4-2.7um。
型号:
S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2
应用:
应用于湿法腐蚀和干法刻蚀,也与底层胶LOR搭配,做lift-off 工艺。
特性:
● 通过ZXJ的物理、化学和功能测试,保证批次与批次之间的一致性
● 绝对过滤精度0.2um,杂质少
● 不含醋酸纤维素和二甲苯
● 高分辨
● 粘附性好
● 涂胶厚度均匀
● 多种标准粘度可用于单层加工
● 可适用于无金属离子的(MIF)显影液和含金属离子的显影液(MIC)
● 易去胶
S1800系列配套显影液
shipley s1813光刻胶
型号:
MICROPOSITR MF-319 DEVELOPER
主要成分:
水 >95% CAS 7732-18-5
表面活性剂 <1%
四甲基氢氧化铵 2.2% CAS 75-59-2
原理与使用方法:
MF-319显影液专门用于高分辨率半导体器件。它是S1400®和S1800®系列光刻胶的专用无金属离子的显影液。虽然MF-319显影液可以用于浸泡显影、旋喷显影,但较好的显影方式是喷雾式或者puddle式显影。
储存:
存储在干燥区域,温度范围为50°-90°F(10°-32°C)。
远离酸、阳光、热源和火源。
放入密封的贮藏器。
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