纳米压印光刻胶 mr-NIL212FC 系列

纳米压印胶 mr-NIL212FC 系列——专为高精度、高效率软紫外纳米压印设计的革命性材料

产品核心优势

mr-NIL212FC 是 micro resist technology 公司专为 软紫外纳米压印（Soft UV-NIL） 开发的液态光固化胶，结合 快速固化（FC）技术 与Excellence的刻蚀稳定性，为高难度基材（如 SiO₂ 等氧化物）的图案转移提供了一站式解决方案。其核心亮点包括：

l闪电固化：即使面对 200 nm 以下微纳结构，也能在低强度紫外光源（320–420 nm）下快速完成固化，显著提升生产效率。

lSuper strong刻蚀耐受性：相比常规型号 mr-NIL210，对 O₂ 等离子体及卤素基刻蚀的稳定性提升 30% 以上，是硬质基材图案转移的理想掩模。

l广谱兼容性：Perfect适配 PDMS 类弹性印章（推荐 Shin-Etsu KER-4690），同时支持 PFPE、COC 等软质印章，以及石英、镍等硬质印章（需搭配防粘层 F13-TCS）。

为什么选择 mr-NIL212FC？

✅ 即用型配方：开瓶即用，通过 3000 rpm 旋涂 30 秒 即可获得 100/200/300 nm 精准膜厚（公差±15 nm），预烘烤仅需 60°C/3 分钟，大幅简化流程。
✅ 工艺灵活性：

l支持 紫外汞灯 或 365–405 nm LED 光源，推荐曝光剂量 >1 J/cm²。

l可选 后烘烤（100°C/1 分钟） 进一步提升刻蚀性能。

✅ 工业级可靠性：与 OpTool GMN 系列印章兼容，适合量产环境（HVM），压印压力 <100 mbar，缺陷率极低。

典型应用场景

l半导体先进制程：高深宽比纳米线、光子晶体的批量制造。

l光学器件：AR/VR 衍射光栅、微透镜阵列的高保真图案化。

lMEMS/传感器：复杂三维结构的低成本快速原型开发。

技术参数速览

用户友好设计

l基材适配：硅、蓝宝石、玻璃等基材均可直接使用，推荐搭配底涂剂 mr-APS1 或 Omnicoat 以增强附着力。

l后处理简便：残余层可通过 O₂ 等离子体 快速清除，剥离选用 热硫酸（Piranha） 或超声辅助溶剂（PGMEA）。

l安全环保：无卤素配方，存储条件宽松（15–25°C），保质期 6 个月。