匀胶机/匀胶旋涂仪 |
湿法刻蚀显影清洗系统 |
掩膜曝光光刻机 |
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Mask Aligner系列 |
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NXQ系列 |
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纳米压印光刻机 |
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NIL系列 |
紫外臭氧清洗机 |
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等离子清洗机 |
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大气常压等离子清洗系统 |
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HPC小型射频等离子清洗机 |
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PIE小型等离子清洗机 |
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PPC微波等离子清洗机 |
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PE等离子表面处理清洗机 |
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STAR系列等离子清洗机 |
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SCE射频等离子清洗系统 |
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Anatech等离子刻蚀机 |
超声波清洗机 |
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Dake手压机 |
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Dake压片机 |
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程序剪切仪 |
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美国Cargille光学试剂 |
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美国Cargille光学浸入液 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
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Naphrax 硅藻胶 |
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环氧树脂 |
钙钛矿材料 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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染料&光敏剂 |
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晶圆切割机 |
烤胶机(英文名:Hot Plate)又名烘胶台,烤胶台,加热平台,烤胶板,热台,热板等用途可在光刻工艺中的涂胶后的软烘,暴光后烘,显影后的坚膜,磨片粘片熔腊等,它采用整体铸造,加热板作为加热体,增强了设备的安全性。采用单片机作为控制核心部件,有极高精准的控温精度,紧凑美观。该设备对一些温度敏感材料(如晶体、半导体、陶瓷等)进行加热和装卡尤为适用。该设备结构简单,操作简便,安全可靠,是从事半导体热处理、材料研究生产、温度干燥试验等必不可少的工具。
产品特点:
加热面积大,加热均匀,升温快;
采用微处理芯片控制温度,持续加热,抗电磁干扰;
特殊防腐材料,耐腐蚀,使用寿命长;
设计美观大方;
技术参数:
温度控制:温度从50–230℃;
程序控制:可编程存储10个程序;
温度均匀性:+/- 1.0℃;
加热面积:220 x 220毫米,适用于1 x 8英寸晶圆;
•可选的真空烘烤
•可选的接近销
•可选的起重销
•最多可选20个程序
加热板材料:阳极氧化铝;
带有声音的倒数计时器(1–999秒);
CE认证;
报警;
•可选的真空烘烤
•可选的接近销
•可选的起重销
•最多可选20个程序
应用:
固化光刻胶,前烘,坚膜等
固化环氧塑脂
其它需要高精度控温的场合
产品相关关键字: 加热板 加热台 烤胶机 热板 |