湿法刻蚀显影清洗系统 |
匀胶机/匀胶旋涂仪 |
狭缝涂布仪 |
掩膜曝光光刻机 |
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Mask Aligner系列 |
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NXQ系列 |
纳米压印光刻机 |
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NIL系列 |
快速退火炉 |
烤胶机/热板 |
紫外臭氧清洗机 |
紫外固化机/紫外固化箱 |
等离子去胶机 |
超声波清洗机 |
等离子清洗机 |
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大气常压等离子清洗系统 |
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HPC小型射频等离子清洗机 |
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PIE小型等离子清洗机 |
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PPC微波等离子清洗机 |
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STAR系列等离子清洗机 |
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PE等离子表面处理清洗机 |
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Anatech等离子刻蚀机 |
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SCE射频等离子清洗系统 |
原子层沉积系统 |
光学膜厚仪 |
探针台 |
压片机/液压机 |
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等静压机 |
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标准型实验室压片机 |
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加热型手动压片机 |
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自动台式实验室压片机 |
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压实密度仪 |
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实验室电动压片机 |
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层压机 |
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Dake手压机 |
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Dake压片机 |
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WABASH平板硫化机 |
制样机 |
接触角测角仪 |
手持式表面分析仪 |
干冰清洗机 |
注射泵 |
显微镜检测系统 |
程序剪切仪 |
环氧树脂 |
韩国波导树脂 |
光学试剂 |
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美国Cargille光学试剂 |
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美国Cargille光学浸入液 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
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Naphrax 硅藻胶 |
钙钛矿材料 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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玻璃基板 |
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电解质/电解液 |
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染料&光敏剂 |
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配体材料&中间分子材料 |
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二氧化钛膏&铂膏 |
光刻胶 |
碳纸碳布 |
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碳纸 |
防潮箱 |
马弗炉 |
培养箱 |
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手套箱 |
天平 |
键合机 |
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JFP引线键合机 |
紫外交联仪 |
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UVP紫外交联仪 |
膜厚监测仪 |
离子溅射仪 |
搅拌脱泡机 |
椭偏仪 |
自动涂膜器 |
分光光度计 |
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红外光谱仪 |
点胶机 |
喷涂机 |
晶圆片 |
密度测试仪 |
临界点干燥仪 |
光谱仪 |
太阳光模拟器 |
干燥机 |
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旋转冲洗干燥机 |
Norland胶水 |
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光学胶 |
超声喷涂机 |
真空回流焊炉 |
过滤器 |
切割机 |
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晶圆切割机 |
光谱椭偏仪带自动监测
椭圆偏振光谱(SE)是一种成熟的光学技术,用于以非破坏性和非接触方式表征块状材料,薄膜,涂层,表面层和嵌入层。对于常规和晶圆厂加工质量控制,必须有一个自动盒式装卸机。为此,我们开发了一种低成本解决方案,可将晶圆尺寸从2“扩展到8”(台式),将塔式尺寸扩展到12“。用户甚至可以为每个插槽定义配方,从而为整个盒式磁带测量定义配方。
应用范围:
半导体制造(PR,氧化物,氮化物..)
液晶显示器(ITO,PR,液晶盒间隙…..)
光学涂料,TiO2,SiO2,Ta2O5…..
半导体化合物
MEMS / MOEMS中的功能膜
非晶,纳米和晶体硅
光伏薄膜,CdTe,CdS,CIGS,AZO,CZTS .....
特征:
水平样品放置
价格合理,成本低廉,设计紧凑
易于与基于Windows的软件一起使用;高级用户的科学模式,日常操作员模式
可变入射角,用户可定义分辨率
全面的光学常数数据库和模型配方
先进的TFProbe软件允许用户定义具有NK表,色散或EMA混合物/复合材料的层以及索引等级以及表面/界面粗糙度...
可通过各种选件和附件进行升级和重新配置
晶圆厚度:200µm至1mm(弓形<1.5mm,无翘曲)
前载纸盒
带有传感器的高速电梯
包括盒式磁带映射器(检测空插槽和交叉开槽的晶圆)
包含台载传感器
包含用于平板或槽口的预对准器
EMO紧急关机开关
中心触点末端执行器与椭圆偏振仪工具上的晶片支架匹配
兼容洁净室
易于使用的可调节水平脚,并牢固桥接至椭圆仪框架
紧凑的设计,所有电子设备内置在装载机中
通用电源输入
通过USB与计算机通信,与Ellipsometer共享一台计算机和显示器
升级的TFProbe SW具有集成的晶圆处理功能,易于操作
特殊设计的带有真空吸盘的新型晶圆支架,可将晶圆固定在适当位置
系统配置:
根据不同的应用,光谱椭偏仪可以配置SE200BM,SE300BM和SE500BM或其他型号。
总重量:300磅
尺寸:60英寸(长)x 35英寸(长)x 35英寸(高)
电源:通用输入100-240 VAC,6A,50-60 H
真空源:最小70 kPa(21 Hg),带有1/4英寸的供气管
产品相关关键字: 光谱椭偏仪 椭圆偏光仪 椭圆偏振仪 椭偏仪 SE系列光谱椭偏仪 |