SSI快速退火炉

简要描述：SSI快速退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统，适合于广泛大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火（RTA），（如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等）。

产品分类

详细介绍

美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%，处理的大尺寸可以达到200mm，温度可以达到1200摄氏度，处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行，做多可支持4~6路进气，可以用到的气体包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。

基于PID处理控制器的Solaris GUI可以存储程序，每套程序可以支持高达100个步骤的设定，带USB2.0的接口。包含Solaris GUI 软件，与微软Windows操作系统兼容。通过该软件，通过链接电脑可以非常方便地实现程序编辑以及数据记录。

技术规格：

- 温度：1200摄氏度；

- 升温速率：150摄氏度/秒；

- 温控均匀性：±2.5℃设定温度；

- 加热方式：红外卤素灯，顶部及底部区域加热；

- 处理时间：0.1秒至无*；

- 灯管数量及功率：13支，

- 腔体冷却：风冷方式；

- 衬底冷却：氮气吹扫；

- 工艺气路：MFC控制，多6路 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)；

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