设为主页 加入收藏 联系我们

当前位置：

首 页 > 产品中心 > 快速退火炉系统SS
目录导航 Directory

产品展示Products

快速退火炉系统SS

型    号：Solaris Eclipse
报    价： 市场价:
分享到：

快速退火炉系统SSI是一个简单稳定的热处理系统，适合于广泛最大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火（RTA），（如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等）。

快速退火炉系统SS产品概述：

 

美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%，处理的最大尺寸可以达到200mm，温度可以达到1200摄氏度，处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行，做多可支持4~6路进气，可以用到的气体包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。

- 处理时间：0.1秒至无限时间；

- 灯管数量及功率：13支，

- 腔体冷却：风冷方式；

- 衬底冷却：氮气吹扫；

- 工艺气路：MFC控制，最多6路 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)；

应用领域：

快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

硅化 (Silicidation);

扩散 (Diffusion);

化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

离子注入后退火 (Implant Annealing);

电极合金化 (Contact Alloying);

晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);

 

产品相关关键字： 真空退火炉 快速退火炉

留言框

  • 产品：

  • 留言内容：

  • 您的单位：

  • 您的姓名：

  • 联系电话：

  • 常用邮箱：

  • 详细地址：

  • 省份：

  • 验证码：

    请输入计算结果（填写阿拉伯数字），如：三加四=7

电话:400-8800298
点击这里给我发消息

　
扫一扫访问手机站扫一扫访问手机站
访问手机站