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快速退火炉系统SS

简要描述:快速退火炉系统SSI是一个简单稳定的热处理系统,适合于广泛大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA),(如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等)。

  • 产品型号:Solaris Eclipse
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2020-09-24
  • 访  问  量:477

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详细介绍

 

美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%,处理的大尺寸可以达到200mm,温度可以达到1200摄氏度,处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行,做多可支持4~6路进气,可以用到的气体包含N2O2N2H2ArH2

- 处理时间:0.1秒至无*;

- 灯管数量及功率:13支,

- 腔体冷却:风冷方式;

- 衬底冷却:氮气吹扫;

- 工艺气路:MFC控制,多6 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)

应用领域:

快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

硅化 (Silicidation);

扩散 (Diffusion);

化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

离子注入后退火 (Implant Annealing);

电极合金化 (Contact Alloying);

晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);

 

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