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基础型膜厚仪(紫外/近红外-高分辨率)

简要描述:品牌:希腊ThetaMetrisis
名词:膜厚仪 膜厚仪、测厚仪、干涉仪、厚度测量仪
干涉仪是利用干涉原理测量光程之差从而测定有关物理量的光学仪器。两束相干光间光程差的任何变化会非常灵敏地导致干涉条纹的移动,而某一束相干光的光程变化是由它所通过的几何路程或介质折射率的变化引起,所以通过干涉条纹的移动变化可测量几何长度或折射率的微小改变量,从而测得与此有关的其他物理量。

  • 产品型号:FR-pRo
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2019-08-26
  • 访  问  量:1432

详细介绍

FR-pRo VIS/NIR基础型膜厚仪(紫外/近红外-高分辨率)光谱范围:350-1000nm

Α)卤钨光源系统Tungsten Halogen light source 全软件控制的光谱范围和辐照强度。

小型光谱仪光谱范围(350nm-1000nm),分辨精度可达3648像素, 16位级 A/D 分辨精度;配有USB通讯接口;

光学连接器SMA 905, 光谱仪功率:110VAC/230VAC – 60Hz/50Hz.

10mm厚度的氧化铝面板,每英寸(25mm)间距,配有M6 (or ¼”) 口径钻孔,用以安装光学部件。

样品放置台,配有多点Z轴聚焦和X-Y轴移动调节。反射探针夹具调节范围 (200mm – 200mm – 60mm),可在测试区域内精准调节。

Β) FR-Monitor膜厚测试软件系统,

可精确计算如下参数:

1)单一或堆积膜层的厚度;

2)静态或动态模式下,单一膜层的折射率;本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库,可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率,透射率和反射率的测量,还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱,一次使用授权,即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。

C) 参考样片:

a) 经校准过的反射标准硅片;

b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片;

c) 经校准过的带有Si3N4/SiO2/Si特征区域的样片;

D) 反射光学探针

系统内嵌6组透射光探针200μm, 1组反射光探针200μm

 

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