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扫描型薄膜在线测厚仪

型    号:FR-Scanner
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品牌:希腊ThetaMetrisis
名词:膜厚仪 膜厚仪、测厚仪、干涉仪、厚度测量仪
干涉仪是利用干涉原理测量光程之差从而测定有关物理量的光学仪器。两束相干光间光程差的任何变化会非常灵敏地导致干涉条纹的移动,而某一束相干光的光程变化是由它所通过的几何路程或介质折射率的变化引起,所以通过干涉条纹的移动变化可测量几何长度或折射率的微小改变量,从而测得与此有关的其他物理量。

扫描型薄膜在线测厚仪产品概述:

FR-Scanner 扫描型光学膜厚仪主要由以下系统组成:

A)   光学光源装置

小型低功率混合式光源

本系统混合了白炽灯和LED灯,最终形成光谱范围360nm- 1100nm;该光源系统通过微处理控制,光源平均寿命逾10000小时;

集成小型光谱仪,光谱范围360-1020nm,分辨精度 3648像素CCD 16 A/D 分辨精度.

集成式反射探针,6组透射光探针(200um),1组反射光探针,探针嵌入光源头,可修整位置,确保探针无弯曲操作;

光源功率:3W;

B)    超快扫描系统,平面坐标内,可进行625次测量/分钟 (8’’ wafer) 500次测量/分钟(300mm wafer). 全速扫描时,扫描仪的功率消耗不超过200W

样品处理台:最大样品处理尺寸可达300mm. 可满足所有半导体工艺要求的晶圆尺寸。手动调节测量高度可达25mm;配有USB通讯接口,功率:100 - 230V 115W.

C) FR-Monitor膜厚测试软件系统,

可精确计算如下参数:

1)单一或堆积膜层的厚度;

2)静态或动态模式下,单一膜层的折射率;本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库,可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率,透射率和反射率的测量,还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱,一次使用授权,即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。

D) 参考样片:

a) 经校准过的反射标准硅片;

b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片;

E) 附件

可定制适用于半导体工艺的任何尺寸的晶圆片(2, 3, 4, 5, 6, 200mm, 300mm)

产品相关关键字: ThetaMetrisis 膜厚仪 薄膜测厚仪 膜厚测试仪 干涉仪

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