匀胶机/匀胶旋涂仪 |
湿法刻蚀显影清洗系统 |
掩膜曝光光刻机 |
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NXQ系列 |
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烤胶机/热板 |
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纳米压印光刻机 |
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紫外臭氧清洗机 |
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大气常压等离子清洗系统 |
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HPC小型射频等离子清洗机 |
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PPC微波等离子清洗机 |
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PE等离子表面处理清洗机 |
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STAR系列等离子清洗机 |
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SCE射频等离子清洗系统 |
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Dake压片机 |
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光学试剂 |
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美国Cargille光学试剂 |
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美国Cargille光学浸入液 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
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Naphrax 硅藻胶 |
韩国波导树脂 |
环氧树脂 |
钙钛矿材料 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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玻璃基板 |
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电解质/电解液 |
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染料&光敏剂 |
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配体材料&中间分子材料 |
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光刻胶 |
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碳纸 |
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真空回流焊炉 |
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晶圆切割机 |
概括
真空回流焊炉红外灯交叉放置在工具板下方和盖子中。尺寸为420x420mm的方形工具板可以用任何合适的材料制成,也可以在其中使用用于固定装置的定制开口。通过设计,可将模具板及其上的零件一起装入腔室内-适用于批量生产。通过从腔室底部吹向工具板的氮气流进行工艺冷却。
技术指标
真空回流焊炉
工艺环境: | 氮气,惰性气体,甲酸,合成气 |
Z高温度: | 450℃ |
加热面积: | 420 x 420mm |
加热板: | 可移动:石墨,铝等 |
加热板上方的间隙: | 60mm |
加热/冷却斜坡: | 250℃/分钟 |
控制偏差: | +/- 0.5℃ |
加热元件: | 两排交叉的16个红外加热灯 |
加热控制: | 每个加热灯均可独立调节 |
加热板冷却: | 氮气流量 |
温度测量: | 多达4个热电偶K型可自由定位 |
压力测量: | 两量程满量程 |
Z大真空度: | 1x10-2 mbar(带涡轮泵的5x10-6 mbar) |
甲酸起泡器: | 前面板40毫升容器,可自动填充 |
箱体冷却: | 水/乙二醇混合物 |
盖观察口: | 80mm,带百叶窗 |
显示: | 7英寸液晶触摸屏 |
电脑软件: | 工艺记录,配方传输等 |
用户界面: | 继电器I/O的远程控制 |
外型尺寸: | 见布局 |
重量: | 280公斤 |
电源供应: | 三相,特定国家 |
主营产品:
Laurell匀胶机
Harrick等离子清洗机
Thetametrisis膜厚仪
Microxact探针台
ALD原子层沉积系统
TRION反应离子刻蚀机
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻机
Novascan紫外臭氧清洗机
Nilt纳米压印机
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板
Annealsys高温退火炉
Kinematic程序剪切仪
Laurell EDC系统,湿站系统
Wabash/Carver自动压片机
产品相关关键字: 真空回流焊炉 回流焊接 真空焊接 焊接系统 真空烤炉 |