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Jelight紫外臭氧清洗机是一种快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子对有机物质所起的光敏氧化作用以达到清洗粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物）的目的。是清除硅、砷化镓、石英、蓝宝石、玻璃、云母、陶瓷、金属等表面有机污染物的较安全、较有效的方法。除清洗外，Jelight紫外臭氧清洗机还可用于表面改质，如通过紫外处理后，涂层与表面的粘附力可大大增加，可用于生物芯片制作过程中PDMS键合

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美国Jelight紫外臭氧清洗机产品概述：

紫外臭氧清洗优点：

1. 被清洗的表面除了光子，不与任何物体发生接触，有机物经过紫外光照射发生光敏氧化反应后，生成可挥发性气体

（CO2、CO、H2O等）从表面消散，随着排风系统抽走。

2. 表面洁净度高，且不会像溶液清洗时发生二次污染。

3. 光清洗的表面不会受到损伤，由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小，光清洗后的表面不

会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。

4. 光清洗对物体表面微细部位（如孔穴、微细沟槽等）具有有效而彻底的清洗效果。由于紫外光是纳米短波紫外线，能够

射入材料表面的极为细微的部位，发生光敏氧化反应，充分表现出光清洗的彻底性。

相关应用

■在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。

■清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片

■清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器

■蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料

■增强GaAs 和Si氧化物钝化表面

■增强玻璃的除气作用

■基片蓝膜去除

■增强塑料表面的镀膜的粘附性

■基片终测后墨迹清楚

■去除光刻胶

■平板显示器/液晶显示器

■去除光刻机台上的光刻胶残留物

■在电路板封装和打片之前清洗）

■光纤

■增强表面亲水特性

■为生物科学应用做清洗和消毒

■光学透镜

■其它应用

臭氧发生器

Ozone Generator

臭氧（氧化电位2.7eV）的反应活性相当强，是一种强氧化剂。在许多新领域的研发过程中，它逐渐成为不可缺少的元素之一。其中包含化学实验室，大学以及电子，医药，化学，生物和医学研究机构。在工业应用的范围也增加许多。例如半导体产业，环境研究。饮用水及污水处理，塑料和包装产业以及食品加工技术。臭氧也被常用为杀菌与消毒液体，气体和固体有机物质。无论是单一的实验室或实验工厂，甚至工业生产的规模，由于新的技术，使生产臭氧不再成为经济负担。本公司的产品专门使用低压汞气灯所放射出的短波紫外线，来产生纯净的臭氧。订购时，请指明120VAC/60Hz或220VAC/50Hz的电源供应器。

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美国Jelight紫外臭氧清洗机

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