Plasmionique 支持电子束蒸发和热蒸发 镀膜

Plasmionique 支持电子束蒸发和热蒸发 镀膜 具有以下显著特点：

1.多功能材料处理

支持金属、介电材料和有机材料的蒸发，采用蒸发舟、坩埚篮及低温扩散池（专为有机材料设计），满足多样化实验需求。

2.紧凑结构与高真空性能

尺寸紧凑（约32英寸宽×22英寸深×24英寸高），沉积腔体直径8英寸、高14英寸。

配备涡轮泵（80-90 L/s），基础压力低至10⁻⁶~10⁻⁷ Torr，确保洁净的沉积环境。

3.自动化与智能控制

计算机控制的可编程电源（0-6 VDC，110A），集成PLASMICON控制软件，支持工艺配方自动化。

10英寸触摸屏实时监控，实现全自动沉积流程与数据采集。

4.多样化加热源配置

可选金属舟、篮式加热器、氧化铝涂层加热器及低温扩散源，适应不同温度需求。

低温扩散池配备独立电源和快门，提升操作灵活性。

5.精密沉积控制

至少一个石英晶体微量天平，精准测量薄膜厚度并控制沉积速率。

6.兼容性与扩展性

支持最大4英寸直径的基板，满足常见实验尺寸需求。

自动化排气系统，提升操作便捷性。

7.定制化服务

可根据用户需求提供个性化解决方案，搭配专业团队的技术支持。

Plasmionique 支持电子束蒸发和热蒸发 镀膜 以紧凑设计、高真空性能、智能控制及多材料兼容性为核心优势，适用于科研与工业领域的精密表面处理与薄膜沉积应用。