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当前位置:首页   >  产品中心  >  紫外掩膜曝光系统  >  UV-KUB2  >  UV-KUB2UV-LED紫外掩膜曝光系统

UV-LED紫外掩膜曝光系统

简要描述:我们在Dilase 直接激光写入光刻技术方面拥有丰富的经验,因此推出了用于固化紫外光感光材料的 UV-KUB 系统。 UV-KUB 2 是一种基于 UV LED 的曝光和掩膜系统,具有 365nm 的可用光源。 这是一款紧凑型的桌面系统,能够曝光最大直径为 4“ 或 6“ 的晶圆。

  • 产品型号:UV-KUB2
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2022-04-24
  • 访  问  量:325

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详细介绍

用于软光刻工艺,紧凑的桌面系统

365nm +/- 5nm 处*单色曝光

可处理4英寸或6英寸晶圆

提供硬接触和软接触模式 

与所有光刻胶兼容

分辨率:1µm

 

我们在Dilase 直接激光写入光刻技术方面拥有丰富的经验,因此推出了用于固化紫外光感光材料的 UV-KUB 系统。 UV-KUB 2 是一种基于 UV LED 的曝光和掩系统,具有 365nm 的可用光源。 这是一紧凑的桌面系统,能够曝光最大直径为 4" 6" 的晶圆。 UV-KUB 系统与硬(物理)接触或软(接近)接触工艺兼容,并具有可变掩到基板距离控制的特点。由触摸屏控制,UV-KUB 2通过*封闭的曝光保证安全。由于它的密封配置,该设备不需要安装在洁净室中。

 

技术突破:

1、高质量准直器

· 发散角小于2°,保证了在厚层上实现分辨率低至 1µm和边缘垂直度极 jia的图案。

· 这种高质量的准直允许在不需要真空接触模式的情况下达到微米级的分辨率。

2LED技术

·完 mei的单色曝光光源

·冷紫外线源,防止不良热效应

·可以在连续或脉冲模式下运行

·寿命长:uv-led光源不属于消耗品

 

特征

整个工作表面上的完 mei单色曝光光源:更高的固化效率

低温紫外线照射条件和基板环境的实时原位温度控制:在整个表面上提供均匀的照射,从而防止不良的热效应

寿命长(基于 LED 系统):> 10 000 小时有效使用

用户友好型触摸屏界面,可设置曝光循环编程

提供连续或循环曝光模式

无需预热时间

紫外线源强度调节的计算机控制,很直观

紫外线照射室*密封:保证用户安全

自动晶圆装卸系统

低消耗

 

应用范围:

UV-KUB 2 系统非常适合实验室和研发团队的广泛应用,涉及微流体、光学、生物技术、微技术、需要 1 个掩层的光刻工艺、晶圆键合、简单层或粘合剂固化、连接、组装和生物 或细胞培养。

 

技术参数:

分辨率

1µm

发散角

2°

可编程周期数

10

曝光周期(连续/不连续)

1 秒到 1 小时

接触模式

硬(物理)接触或软(接近)接触

 

UV-LED光源:

波长

365nm +/- 5nm

均匀曝光

+/- 5%

LED的寿命

>10000小时

 

工作处理表面:

处理表面

4英寸或6英寸晶圆

曝光期间的基板预热

1

兼容光刻胶

SU8ShipleyAZ ResistK-CL 抗蚀剂

 

其他参数:

·尺寸260(L)x 260(W)x 260(H)毫米

·重量8,2千克/18

·彩色触摸屏:5,7英寸

·功率密度:35 mW/cm2+/-10%

·电源:100 v/240 V-50 Hz/60 Hz

·功率/消耗量180 W

·膜版与晶之间的距离控制:10 µm

·全版曝光:6mm

·基片厚度+层数:最大2mm


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