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匀胶旋涂仪M-SPIN

型    号:M-SPIN 200
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匀胶旋涂仪M-SPIN 200是用于均匀涂覆和干燥晶圆片或衬底。该匀胶旋涂仪适用于直径最大为8英寸的晶圆片,或最大为6英寸 x 6英寸的衬底。它可使用分配臂全自动工作,分配移动托盘,可定义数量。该匀胶旋涂仪配备了顶盖的联锁机制,和可视化全图形触摸面板。M-Spin 200匀胶旋涂仪包含一个内置模块,该模块连接到柔性电缆,外接到一个19英寸外部控件上。

匀胶旋涂仪M-SPIN产品概述:

匀胶旋涂仪M-SPIN 200是用于均匀涂覆和干燥晶圆片或衬底。该匀胶旋涂仪适用于直径最大为8英寸的晶圆片,或最大为6英寸 x 6英寸的衬底。它可使用分配臂全自动工作,分配移动托盘,可定义数量。该匀胶旋涂仪配备了顶盖的联锁机制,和可视化全图形触摸面板。M-Spin 200匀胶旋涂仪包含一个内置模块,该模块连接到柔性电缆,外接到一个19英寸外部控件上。

匀胶旋涂仪M-SPIN 200产品参数:

可处理衬底尺寸:直径最大为8英寸的晶圆片,或最大为6英寸 x 6英寸的衬底;

旋转速度:达9,000 rpm(以1 rpm步长可调);

固定晶圆片或衬底的装置:真空托盘;

处理时间:(1-999秒,可在1秒内调整);

加速度:1-5,000rmp/sec;

其他参数:20个程序段,每个40步

设备尺寸:约 480mmx 360mm x 416mm(不带盖子)

控制器尺寸:约 145mmx 100mm x 120mm

 

产品选配件:

适用各种尺寸大小的托盘

分配臂

 

主营产品:

Laurell匀胶机     

Harrick等离子清洗机

Thetametrisis膜厚仪  

Microxact探针台

ALD原子层沉积系统

TRION反应离子刻蚀机

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻机       

Novascan紫外臭氧清洗机

Nilt纳米压印机

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板

Annealsys高温退火炉

Kinematic程序剪切仪

Laurell EDC系统,湿站系统     

Wabash/Carver自动压片机

产品相关关键字: 甩胶机 旋涂仪 匀胶台 镀膜机 涂膜机

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