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Dake压片机 |
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美国Cargille光学试剂 |
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美国Cargille光学浸入液 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
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Naphrax 硅藻胶 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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玻璃基板 |
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电解质/电解液 |
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晶圆切割机 |
匀胶旋涂仪M-SPIN 200是用于均匀涂覆和干燥晶圆片或衬底。该匀胶旋涂仪适用于直径最大为8英寸的晶圆片，或最大为6英寸 x 6英寸的衬底。它可使用分配臂全自动工作，分配移动托盘，可定义数量。该匀胶旋涂仪配备了顶盖的联锁机制，和可视化全图形触摸面板。M-Spin 200匀胶旋涂仪包含一个内置模块，该模块连接到柔性电缆，外接到一个19英寸外部控件上。
匀胶旋涂仪M-SPIN 200产品参数：
可处理衬底尺寸：直径最大为8英寸的晶圆片，或最大为6英寸 x 6英寸的衬底；
旋转速度：达9,000 rpm（以1 rpm步长可调）；
固定晶圆片或衬底的装置：真空托盘；
处理时间：（1-999秒，可在1秒内调整）；
加速度：1-5,000rmp/sec；
其他参数：20个程序段，每个40步
设备尺寸：约 480mmx 360mm x 416mm(不带盖子)
控制器尺寸：约 145mmx 100mm x 120mm
产品选配件：
适用各种尺寸大小的托盘
分配臂
泵
主营产品：
Laurell匀胶机
Harrick等离子清洗机
Thetametrisis膜厚仪
Microxact探针台
ALD原子层沉积系统
TRION反应离子刻蚀机
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻机
Novascan紫外臭氧清洗机
Nilt纳米压印机
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板
Annealsys高温退火炉
Kinematic程序剪切仪
Laurell EDC系统，湿站系统
Wabash/Carver自动压片机
| 产品相关关键字： 甩胶机 旋涂仪 匀胶台 镀膜机 涂膜机 |
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