匀胶机/匀胶旋涂仪 |
湿法刻蚀显影清洗系统 |
掩膜曝光光刻机 |
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Mask Aligner系列 |
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NXQ系列 |
狭缝涂布仪 |
烤胶机/热板 |
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纳米压印光刻机 |
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NIL系列 |
紫外臭氧清洗机 |
紫外固化机/紫外固化箱 |
等离子清洗机 |
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大气常压等离子清洗系统 |
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HPC小型射频等离子清洗机 |
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PIE小型等离子清洗机 |
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PPC微波等离子清洗机 |
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PE等离子表面处理清洗机 |
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STAR系列等离子清洗机 |
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SCE射频等离子清洗系统 |
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Anatech等离子刻蚀机 |
超声波清洗机 |
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光学膜厚仪 |
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压片机/液压机 |
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等静压机 |
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加热型手动压片机 |
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自动台式实验室压片机 |
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压实密度仪 |
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实验室电动压片机 |
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层压机 |
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Dake手压机 |
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Dake压片机 |
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WABASH平板硫化机 |
制样机 |
手持式表面分析仪 |
接触角测角仪 |
干冰清洗机 |
注射泵 |
显微镜检测系统 |
程序剪切仪 |
光学试剂 |
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美国Cargille光学试剂 |
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美国Cargille光学浸入液 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
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Naphrax 硅藻胶 |
韩国波导树脂 |
环氧树脂 |
钙钛矿材料 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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玻璃基板 |
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电解质/电解液 |
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染料&光敏剂 |
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配体材料&中间分子材料 |
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二氧化钛膏&铂膏 |
光刻胶 |
碳纸碳布 |
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碳纸 |
防潮箱 |
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UVP紫外交联仪 |
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自动涂膜器 |
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临界点干燥仪 |
光谱仪 |
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Norland胶水 |
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光学胶 |
超声喷涂机 |
真空回流焊炉 |
过滤器 |
切割机 |
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晶圆切割机 |
高精度狭缝挤出式涂布机(可适配于套箱)
涂布间隙控制:高精准,动态控制涂布头高度(z轴);
模具运动控制:在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数);
模具设计:针对高一致性、化学兼容性、低充填容量和条状涂布进行模具设计制造;
涂布控制:涂布速率(稳态涂布)和涂布轮廓(前后边缘)的高精度数字化控制;
控制软件:所有配方参数,数据监控和反馈控制,数据采集分析。
应用领域:
1. 平板显示
2. LCD/OLED
3. 触摸屏
4. 太阳能光伏
5. CIGS,CdTe,OPV和C-Si
6. 高附加值玻璃
7. 可调光智能玻璃,博物馆用玻璃
8. 半导体,微机电系统,无线射频识别,聚合物电池
9. 各种有机及打印电子器件
设备参数:
基底:玻璃,多孔质基材,金箔,硅片
基底厚度: 2-10mm
涂层用度(温厚):2-1000um
涂布方式:狭缝挤出式涂布
涂布宽度:外宽MAX120mm(实际工作100mm)
涂布平台速度:1-30mm/S
出胶速度:1-500uL/s
狭缝式涂布技术
狭缝涂布( SlotDie Coating)技术利用精密机械加工所制作的模块,由涂布模具相对于基片作精确运动,通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体,将液体化学材料挤出涂布于移动的基板(玻璃、不锈钢和塑料等)上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算,其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料黏度范围广、涂布速度快、以及可制作大面积的涂膜。
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