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MINN M6匀胶旋涂仪

型    号:M6 Spin Coater
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M6 Spin Coater可旋涂处理小碎片至6英寸圆晶圆片,使用无刷直流双向旋转马达控制,转速稳定,控制器可拆卸配合手套箱使用,4.3英寸全彩触屏人机界面操作,简单易用。M6 Spin Coater外形美观,结构紧凑,专为实验室,研发和小规模生产部门提供性价比高的匀胶涂覆设备。M6 Spin Coater在材料、化学或生物等实验室被广泛用于薄膜制备,纳米薄膜研究等相关领域。

MINN M6匀胶旋涂仪产品概述:

M6 Spin Coater可旋涂处理小碎片至6英寸圆晶圆片,使用无刷直流双向旋转马达控制,转速稳定,控制器可拆卸配合手套箱使用,4.3寸全彩触屏人机界面操作,简单易用。M6 Spin Coater外形美观,结构紧凑,专为实验室,研发和小规模生产部门提供性价比高的匀胶涂覆设备。M6 Spin Coater在材料、化学或生物等实验室被广泛用于薄膜制备,纳米薄膜研究等相关领域。

 

二、技术参数

1.保护气体装置:旋涂过程中对旋转马达进行气流保护(可选择取消);

2.支持Wafer尺寸:最小标配为10 mm,可选配到3mm或5mm;最大到直径6英寸(150mm)的圆片或边长5x5英寸(125x125mm)的方片,无需更换片托;

3.设备材质:全部采用易清洁的NPP天然聚丙烯材质,环保,抗震,耐腐蚀;

4.无刷马达:直流双向旋转,正反旋转速度±100~±12000rpm,稳定性能误差±1rpm

5.马达安全模式:可设置非真空模式,转速3000rpm,加速度500rpm/s

6.加速度可控范围:100-30000RPM/S;

7.工艺时间:每步可以设定45小时,精度不超过0.1秒;

8. PLC控制:4.3英寸全彩触摸屏高精度PLC可编程的控制器;

9.程序段:可存储99个程序段,每个程序段可设置50个不同步骤的速度状态;

10.无油真空泵:220V/50Hz真空吸附范围25-28 英寸汞柱 (~635-711毫米汞柱)可调节;

11.扩展功能:可升级预留端口,可扩展自动滴胶装置、自动去边装置、手动去边等选配项。

 

三、设备性能特点

马达控制:无刷直流双向旋转;

智能程控:控制器可拆卸,4.3英寸寸全彩触屏,配有智能触碰笔,按键有提示音,选中功能有颜色区分,适用于手套箱;

腔体材质:易清洁的NPP天然聚丙烯材质,抗腐蚀性;

模式切换:可自由切换单步模式、多步模式和曲线分析图;

防止堵胶:双真空腔设计;

预留端口:可升级扩展其他多种选配项;

密码功能:设有开机密码和管理员密码,管理员有权限修改核心参数;

安全报警:系统盖板嵌锁、真空异常、通气异常、系统进胶、马达转速异常均会报警,通过声音和界面对话框提示;

气流保护:旋涂过程中对马达进行气流保护(也可选择取消),易维护,易清洁,大幅提高马达使用寿命;

 

四、应用领域

  • 半导体芯片制造
  • 钙钛矿太阳能电池制备
  • 微纳和微流控
  • 纳米薄膜
  • 高分子材料
  • 有机光伏
  • 有机发光二极管
  • 有机场效应晶体管&薄膜晶体管
  • 石墨烯&二维材料

 

主营产品:

Laurell匀胶机     

Harrick等离子清洗机

Thetametrisis膜厚仪  

Microxact探针台

ALD原子层沉积系统

TRION反应离子刻蚀机

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻机       

Novascan紫外臭氧清洗机

Nilt纳米压印机

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板

Annealsys高温退火炉

Kinematic程序剪切仪

Laurell EDC系统,湿站系统     

Wabash/Carver自动压片机

产品相关关键字: 匀胶机 旋涂仪 甩胶机 涂膜仪 台式匀胶机

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