| 匀胶机/匀胶旋涂仪 |
| 湿法刻蚀显影清洗系统 |
| 掩膜曝光光刻机 |
· |
Mask Aligner系列 |
· |
NXQ系列 |
| 狭缝涂布仪 |
| 烤胶机/热板 |
| 快速退火炉 |
| 纳米压印光刻机 |
· |
NIL系列 |
| 紫外臭氧清洗机 |
| 紫外固化机/紫外固化箱 |
| 等离子清洗机 |
· |
大气常压等离子清洗系统 |
· |
HPC小型射频等离子清洗机 |
· |
PIE小型等离子清洗机 |
· |
PPC微波等离子清洗机 |
· |
PE等离子表面处理清洗机 |
· |
STAR系列等离子清洗机 |
· |
SCE射频等离子清洗系统 |
· |
Anatech等离子刻蚀机 |
| 超声波清洗机 |
| 等离子去胶机 |
| 探针台 |
| 光学膜厚仪 |
| 原子层沉积系统 |
| 压片机/液压机 |
· |
等静压机 |
· |
标准型实验室压片机 |
· |
加热型手动压片机 |
· |
自动台式实验室压片机 |
· |
压实密度仪 |
· |
实验室电动压片机 |
· |
层压机 |
· |
Dake手压机 |
· |
Dake压片机 |
· |
WABASH平板硫化机 |
| 制样机 |
| 手持式表面分析仪 |
| 接触角测角仪 |
| 干冰清洗机 |
| 注射泵 |
| 显微镜检测系统 |
| 程序剪切仪 |
| 光学试剂 |
· |
美国Cargille光学试剂 |
· |
美国Cargille光学浸入液 |
· |
美国Cargille激光液 |
· |
美国Cargille封片剂 |
· |
美国Cargille硼酸片 |
· |
美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
· |
美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
· |
美国Cargille折射率匹配液 |
· |
Naphrax 硅藻胶 |
| 韩国波导树脂 |
| 环氧树脂 |
| 钙钛矿材料 |
· |
钙钛矿前体材料 |
· |
钙钛矿前体油墨 |
· |
空穴传输材料&掺杂物 |
· |
密封剂 |
· |
添加剂材料/改性剂材料 |
· |
玻璃基板 |
· |
电解质/电解液 |
· |
染料&光敏剂 |
· |
配体材料&中间分子材料 |
· |
二氧化钛膏&铂膏 |
| 光刻胶 |
| 碳纸碳布 |
· |
碳纸 |
| 防潮箱 |
| 马弗炉 |
| 培养箱 |
| 蠕动泵 |
| 热循环仪 |
| 离心机 |
| 手套箱 |
| 天平 |
| 键合机 |
· |
JFP引线键合机 |
| 紫外交联仪 |
· |
UVP紫外交联仪 |
| 膜厚监测仪 |
| 离子溅射仪 |
| 搅拌脱泡机 |
| 椭偏仪 |
| 自动涂膜器 |
| 分光光度计 |
· |
红外光谱仪 |
| 点胶机 |
| 喷涂机 |
| 晶圆片 |
| 密度测试仪 |
| 临界点干燥仪 |
| 光谱仪 |
| 太阳光模拟器 |
| 干燥机 |
· |
旋转冲洗干燥机 |
| Norland胶水 |
· |
光学胶 |
| 超声喷涂机 |
| 真空回流焊炉 |
| 过滤器 |
| 切割机 |
· |
晶圆切割机 |
一、橡胶制备压力机液压系统：
带有Micro ViewTM用户界面的AB MicrologixTM1200可编程序逻辑控制器
1/16定数字温度控制器，带互锁操作门的全防护模压区域，可选择触摸式量表用于静音操作 ，可选择低压系统用于2-50吨操作。
二、橡胶制备压力机技术指标：
合模力：8-50吨可调
压板间距：8 -16英寸可调
合模行程：8英寸
加热压板：19英寸×19英寸
Z高温度：500℉
操作速度：
关：70英寸/分
压：5英寸/分
开：75英寸/分
尺寸规格：53英寸宽×53英寸厚×81英寸高
设备重量：3650磅（约）
温度均匀性：Genesis橡胶样品制备压机包含了一个压板设计（待批）用以使压板表面保持更jinque的温度均匀性。此压机有三个温度性能范围适合任何工艺要求。
三款设备的温度均匀性参考：
G50H-19-R10ASTM 10°F
G50H-19-R5ASTM 5°F
G50H-19-R2.5ASTM 2.5°F
在达到302℉处理后，从Z小到Z大读数扩散开，如均匀性要求达到2.5℉以下，需与我们确认。
| 产品相关关键字： 平板硫化机 橡胶热压机 30吨压力机 高性能热压机 可编程热压机 |
|
|
|
|
 |