匀胶机/匀胶旋涂仪 |
湿法刻蚀显影清洗系统 |
掩膜曝光光刻机 |
狭缝涂布仪 |
烤胶机/热板 |
快速退火炉 |
纳米压印光刻机 |
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NIL系列 |
紫外固化机/紫外固化箱 |
紫外臭氧清洗机 |
等离子清洗机 |
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大气常压等离子清洗系统 |
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HPC小型射频等离子清洗机 |
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PIE小型等离子清洗机 |
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PPC微波等离子清洗机 |
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PE等离子表面处理清洗机 |
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STAR系列等离子清洗机 |
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SCE射频等离子清洗系统 |
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Anatech等离子刻蚀机 |
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压片机/液压机 |
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等静压机 |
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标准型实验室压片机 |
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加热型手动压片机 |
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自动台式实验室压片机 |
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压实密度仪 |
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实验室电动压片机 |
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层压机 |
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Dake手压机 |
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Dake压片机 |
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WABASH平板硫化机 |
制样机 |
接触角测角仪 |
手持式表面分析仪 |
干冰清洗机 |
注射泵 |
显微镜检测系统 |
程序剪切仪 |
韩国波导树脂 |
环氧树脂 |
光学试剂 |
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美国Cargille光学试剂 |
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美国Cargille光学浸入液 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
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Naphrax 硅藻胶 |
钙钛矿材料 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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玻璃基板 |
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电解质/电解液 |
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染料&光敏剂 |
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配体材料&中间分子材料 |
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二氧化钛膏&铂膏 |
光刻胶 |
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碳纸 |
防潮箱 |
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光学胶 |
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水浴油浴 |
蒸发器 |
冻干机 |
剥离器 |
紫外掩膜曝光系统 |
一、橡胶制备压力机液压系统:
带有Micro ViewTM用户界面的AB MicrologixTM1200可编程序逻辑控制器
1/16定数字温度控制器,带互锁操作门的全防护模压区域,可选择触摸式量表用于静音操作 ,可选择低压系统用于2-50吨操作。
二、橡胶制备压力机技术指标:
合模力:8-50吨可调
压板间距:8 -16英寸可调
合模行程:8英寸
加热压板:19英寸×19英寸
Z高温度:500℉
操作速度:
关:70英寸/分
压:5英寸/分
开:75英寸/分
尺寸规格:53英寸宽×53英寸厚×81英寸高
设备重量:3650磅(约)
温度均匀性:Genesis橡胶样品制备压机包含了一个压板设计(待批)用以使压板表面保持更jinque的温度均匀性。此压机有三个温度性能范围适合任何工艺要求。
三款设备的温度均匀性参考:
G50H-19-R10ASTM 10°F
G50H-19-R5ASTM 5°F
G50H-19-R2.5ASTM 2.5°F
在达到302℉处理后,从Z小到Z大读数扩散开,如均匀性要求达到2.5℉以下,需与我们确认。
产品相关关键字: 平板硫化机 橡胶热压机 30吨压力机 高性能热压机 可编程热压机 |