国产立式快速退火炉 8寸真空，RTP800V，使用多温区控温，可通过APP界面调节温度均匀性。优秀的光源冷却系统确保光源寿命达到国际水平。科学的波长分布保证半导体材料可有效吸收。

国产小型桌面式快速退火炉 4寸真空，RTP500SV，使用多温区控温，可通过APP界面调节温度均匀性。优秀的光源冷却系统确保光源寿命达到国际水平。科学的波长分布保证半导体材料可有效吸收。

国产小型桌面式快速退火炉 4寸非真空，RTP500Z，使用多温区控温，可通过APP界面调节温度均匀性。优秀的光源冷却系统确保光源寿命达到国际水平。科学的波长分布保证半导体材料可有效吸收。

TC-Wafer校准仪是一款专注晶圆温场均匀性测量的仪器，适配市场上大多数主流厂家生产的RTP设备。

RTP-3系列快速退火炉，采用红外辐射加热及冷壁技术，可实现对实验材料的快速升温和降温

AS真空快速退火炉，性能ZYUE，可搭配分子泵实现高真空下热处理工艺。Z高温度1500 ℃，Z快升温速率200℃/Second。全程PC软件控制升温程序，保证温度不过冲，控温精度准确。