加拿大进口Plasmionique离子溅射镀膜仪

加拿大进口Plasmionique离子溅射镀膜仪

核心技术配置

1.沉积性能

沉积室：直径8英寸，高度14英寸，支持基板尺寸最大4英寸。

真空系统：紧凑型涡轮泵（80-90 L/s），基础压力低至10⁻⁶–10⁻⁷ Torr，确保无污染的清洁环境。

2.电源与磁控管

可编程500W溅射电源或RF发生器（120-300W），配备自动匹配网络。

支持水冷磁控管（尺寸1"、2"、3"），最多可安装3个1英寸磁控管，支持平衡/非平衡磁控配置。

3.过程控制

石英晶体微天平：实时监测薄膜厚度与沉积速率。

基板加热：旋转式基板架，温度可调至300°C，PID精准控制。

气体控制：集成2条工艺气体线路，自动化排气系统。

自动化与智能化

1.软件控制：通过PLASMICON控制软件实现全自动化工艺（支持配方编程）。

2.实时监控：10英寸触摸屏界面，实时数据采集与可视化操作。

3.扩展功能：可选配光学光谱仪，用于过程监控与质量控制。

设计优势

1.紧凑尺寸：整机约32"（宽）×22"（深）×24"（高），适合实验室或小型生产环境。

2.模块化设计：灵活配置磁控管、电源及传感器，适应多样化的研究或生产需求。

应用场景

1.科研领域：材料表面处理、纳米薄膜沉积、光学/电子器件研发。

2.工业用途：半导体、光伏、医疗设备涂层等高性能薄膜制备。

加拿大进口Plasmionique离子溅射镀膜仪多功能、高精度的溅射沉积解决方案，适用于对薄膜质量与工艺控制要求苛刻的场景。