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OS紫外臭氧清洗机

简要描述:我们所提供的OS紫外臭氧清洗机系统是一种简单,经济,高效的材料表面清洗设备。只需把样品放置到托盘上,关上舱门,设置时间,按下运行按钮,就可以在几分钟内,快速去除大多数无机基材上的有机污染物,为您提供超洁净的表面。通过使用高功率紫外线光源产生臭氧,将污染物分解成挥发性化合物。这些挥发性化合物从表面蒸发而*迹。这种方法可产生接近原子级的清洁表面并且不会损坏样品。

  • 产品型号:L2002A2
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2020-09-25
  • 访  问  量:1435

详细介绍

应用工艺:

•改善表面亲水性

•表面清洗

•准备薄膜沉积

•表面处理

•紫外固化

•表面灭菌消毒

•去除表面单分子膜

•表面氧化

•清洗AFM / STM探针

•清洗光学元件

 

可清洗的基材示例:

•石英

•硅

•氧化硅

•氮化硅

•金

•镍

•铝

•砷化镓

•矾土

•玻璃

•不锈钢

 

可去除的污染物示例:

•光刻胶

•树脂

•人体皮肤油脂

•清洗溶剂的残留物

•塑料/硅片表面油渍

•助焊剂

 

产品特点:

•成本低;

120x120mm样品台;

•Z大处理样品高度为14mm

•抽屉式样品台,简单方便;                                

•样品台自安全联锁,防止对人身伤害;    

LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”;

60分钟计时器;

•高强度紫外线灯源;

•可控温的样品台;

•样品清洗无需溶剂;

•超净表面。

 

下图显示了UV臭氧处理对基材的影响,以改善表面亲水性。
 

水滴在OTS处理的硅基底(300纳米二氧化硅表面)上,经过紫外臭氧清洗处理前(左图)和处理后(右图)的效果对比。

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