详细介绍
应用工艺:
•改善表面亲水性
•表面清洗
•准备薄膜沉积
•表面处理
•紫外固化
•表面灭菌消毒
•去除表面单分子膜
•表面氧化
•清洗AFM / STM探针
•清洗光学元件
可清洗的基材示例:
•石英
•硅
•氧化硅
•氮化硅
•金
•镍
•铝
•砷化镓
•矾土
•玻璃
•不锈钢
可去除的污染物示例:
•光刻胶
•树脂
•人体皮肤油脂
•清洗溶剂的残留物
•塑料/硅片表面油渍
•助焊剂
产品特点:
•成本低;
•120x120mm样品台;
•Z大处理样品高度为14mm;
•抽屉式样品台,简单方便;
•样品台自安全联锁,防止对人身伤害;
•LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”;
•60分钟计时器;
•高强度紫外线灯源;
•可控温的样品台;
•样品清洗无需溶剂;
•超净表面。
下图显示了UV臭氧处理对基材的影响,以改善表面亲水性。
水滴在OTS处理的硅基底(300纳米二氧化硅表面)上,经过紫外臭氧清洗处理前(左图)和处理后(右图)的效果对比。
产品咨询