ossila紫外臭氧清洗机

ossila紫外臭氧清洗机应用工艺：

•改善表面亲水性

•表面清洗

•准备薄膜沉积

•表面处理

•紫外固化

•表面灭菌消毒

•去除表面单分子膜

•表面氧化

•清洗AFM / STM探针

•清洗光学元件

ossila紫外臭氧清洗机可清洗的基材示例：

•石英

•硅

•氧化硅

•氮化硅

•金

•镍

•铝

•砷化镓

•矾土

•玻璃

•不锈钢

可去除的污染物示例：

•光刻胶

•树脂

•人体皮肤油脂

•清洗溶剂的残留物

•塑料/硅片表面油渍

•助焊剂

产品特点：

•成本低；

•120x120mm样品台；

•Z大处理样品高度为14mm；

•抽屉式样品台，简单方便；                                

•样品台自安全联锁，防止对人身伤害；    

•LCD屏显示“已用时间"和“剩余时间"；

•60分钟计时器；

•高强度紫外线灯源；

•可控温的样品台；

•样品清洗无需溶剂；

•超净表面。

紫外臭氧清洗原理：

紫外臭氧清洗是一种光敏氧化过程，其中短波紫外线辐射被有机分子吸收以将其从表面分离  (通过与臭氧分子的化学反应)。这是一种非常好的技术， 用于清洗基材表面的树脂，清洁 溶剂的残留物，助焊剂，油以及表面消毒等，所有这些有机污染物都会影响样品表面的性能。 与其他清洁技术(例如氧等离子体处理) 不同，紫外臭氧清洗不会导致样品表面损伤。

紫外臭氧系统使用高强度紫外光源， 用 185nm 和 254nm 两种波长的光照射目标表面。系统 内存在的分子氧(O2) 通过波长小于 200 nm 的紫外线辐射分离产生两个氧自由基(O•)。这 些自由基中的每一个随后可以与另外的分子氧反应产生臭氧(O3)分子。未被残余氧吸收 的 200nm 以上的 UV 辐射，会被基材表面上存在的有机化学污染物强烈吸收，一旦被吸收， 这会导致活性或有机自由基的产生。这些反应性有机物质在与不稳定的臭氧分子接触时，会 导致挥发性物质如 CO2 ，H2O ，N2  和短链有机化合物的形成。这些挥发性化合物可以很容 易地从表面上分解吸收， 保持基材的清洁。