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　　NXQ8000系列掩膜曝光机是采用紫外LED冷光源的紫外曝光机和掩膜曝光机，是一种冷光源紫外LED掩膜曝光装置，它提供标准的365nm紫外线，同时可根据用户需求提供385nm,395nm和405nm紫外光源,适合光学，生物科技，微电子，晶圆键合，固化，细胞培养等多种应用，广泛用于紫外曝光。

　　NXQ8000系列掩膜曝光机采用了的LED光源技术，完全实现单波长紫外冷光源照明，有效消除热效应，非常适合实验室或超净间的紫外曝光使用。

　　NXQ8000系列掩膜曝光机系统结构紧凑，方便移动，采用触摸屏控制操作，完全有效安全控制自我曝光室。

　　NXQ8000系列掩膜曝光机系统的LED紫外光源寿命高达1万小时，非常可靠而耐用，不需要日常维护，非常方便使用。

　　NXQ8000系列掩膜曝光机主要技术特点

　　NXQ8000系列掩膜曝光机对准工作台：

　　对准精度高，漂移小。精密楔形误差补偿机构实现三点找平，找平力小，延长掩模版使用寿命。

　　NXQ8000系列掩膜曝光机曝光系统：

　　采用柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球反射镜等精密光学件，具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。

　　NXQ8000系列掩膜曝光机分离视场显微镜：

　　在X、Y方面进行大范围扫描观察，可进行单视场或双视场切换，提高对准效率和套准精度，同时兼容CCD成像显示功能。

　　NXQ8000系列掩膜曝光机电气控制:

　　采用可编程控制器（PLC）、LCD显示屏，操作方便，汞灯电源易于触发，可靠性高。该设备的关键件采用进口或专业厂家制造，气动元件采用SMC的产品，提高了设备的稳定性、可靠性，同时提供个性化服务。