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普通扩散炉，管式炉由于升温速率很慢，因此对测温模块的响应速度都没有特殊要求，常常采用市场上常见低廉的所谓“数字智能”控温表头来作为测温控温的主要组件，俗称“欧陆表”。 但是，在快速升温的情况下，测温表头的工作频率已经跟不上温度变化的速度，有时候样品实际温度与测量温度会相差上百！因此就不能使用通常的办法测温。和国外主流产品一样，东之星的快速热处理设备也采用自主研发的温度测量电路以及控制电路，为设备
AS真空快速退火炉，性能ZYUE，可搭配分子泵实现高真空下热处理工艺。Z高温度1500 ℃，Z快升温速率200℃/Second。全程PC软件控制升温程序，保证温度不过冲，控温精度准确。
AS-Micro真空快速退火炉，性能，可搭配分子泵实现高真空下热处理工艺。zui高温度1250 ℃，zui快升温速率250℃/Second。全程PC软件控制升温程序，保证温度不过冲，控温精度准确。
美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%，处理的大尺寸可以达到200mm，温度可以达到1200摄氏度，处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行，做多可支持4~6路进气，可以用到的气体包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。
快速退火炉系统SSI是一个简单稳定的热处理系统，适合于广泛大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火（RTA），（如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等）。
SSI快速退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统，适合于广泛大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火（RTA），（如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等）。
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